「トライボロジー会議 2006 春 東京（代々木）」では，一般講演による通常のセッションのほかに下記の3つのテーマについてシンポジウムセッションを設け，講演を募ることに致しました．趣旨をご理解の上，ふるってご応募・ご参加下さいますようお願い致します．
なお，これらのシンポジウムセッションにおける講演は，一般講演とは異なり必ずしもオリジナルに限定せず，整理された2次情報も受け付けます．講演の申込は，トライボロジスト2005年11月号，12月号に掲載の｢トライボロジー会議
2006 春 東京（代々木）｣の講演申込要領にそっておこなって下さい．
テーマ（1） 高分子トライボマテリアルの現状と展望 （分類番号20）
オーガナイザー：
| 甲本 忠史 | 群馬大学工学部材料工学科 〒376-8515 群馬県桐生市天神町1-5-1 TEL: 0277-30-1330 FAX: 0277-30-1333 E-mail: komoto@cc.gunma-u.ac.jp |
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| 広中清一郎 | 首都大学東京(科技大)工学部 〒191-0065 東京都日野市旭ヶ丘6-6 TEL: 03-3402-1498 FAX: 03-3402-1505 E-mail: shiron@jade.plala.or.jp |
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| 内山 吉隆 | 金沢大学大学院自然科学研究科システム創成科学専攻 〒920−1192 石川県金沢市角間町（自然科学3号館B棟） TEL: 076-234-4717 FAX: 076-234-4729 E-mail: uchiyama@kenroku.kanazawa-u.ac.jp |
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| 関口 勇 | 工学院大学機械工学科 〒192-0015 東京都八王子市中野町2665-1 TEL: 0426-28-4471 FAX: 0426-28-4471 E-mail: sekiguti@cc.kogakuin.ac.jp |
自動車材料，ＯＡ機器を初め多くの分野で益々その重要性が高まっている高分子トライボマテリアルのこれまでの発展の経緯，現状，そして将来展望についてシンポジウムを開催します．つきましては，「高分子材料のトライボロジー研究会」のメンバーにおかれましては，研究会において話題提供いただきました内容で構いませんので，是非とも，ご発表いただければ幸甚です．もちろん，この分野に関心のある方々からのご発表もお待ちしております．
また，高分子が関係するものであれば，分野および対象は問いません．当研究会には，高分子の科学・技術・応用・製品に関する知見を有するメンバーが多くいますので，ご発表が多いほど，充実した議論が期待されます．さらに，企業の会員におかれましては，製品のご紹介をいただければ，高分子トライボマテリアルの理解を深めるのに大いに役立つことと思います．
テーマ（２） エコマシニング技術とトライボロジー （分類番号2１）
オーガナイザー：
| 中村 隆 | 名古屋工業大学大学院工学研究科つくり領域 〒466-8555 名古屋市昭和区御器所町 TEL: 052-735-5336 E-mail: tnakamur@nitech.ac.jp |
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| 若林 利明 | 香川大学工学部材料創造工学科 〒761-0396 高松市林町2217-20 TEL: 087-864-2393 E-mail: twaka@eng.kagawa-u.ac.jp |
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| 糸魚川文広 | 名古屋工業大学大学院工学研究科しくみ領域 〒466-8555 名古屋市昭和区御器所町 TEL: 052-735-5356 E-mail: itoigawa@nitech.ac.jp |
地球環境保全の観点から製造プロセスでも環境負荷低減技術の研究開発が進められています．特に切削加工を中心とする除去加工ではエコマシニング技術として様々な試みがなされ，実用に供されているものも少なくありません．この技術の進歩には，工具のトライボ特性向上，加工油剤の性能改善という直接的なトライボロジーの課題はもちろんのこと，加工システムや工作機械のトライボシステムとしての改良・開発など，トライボロジーに関連する課題の克服も必要です．また，エコマシニング技術の導入が生産効率を大幅に改善した例もあり，生産プロセス全体の省エネルギー，コスト削減というトライボロジーの重要な使命にも大きく寄与する可能性を秘めています．
本シンポジウムは，多方面からのエコマシニング・エコマニュファクチャリング技術の調査研究・開発研究に関する情報交換を通じて，エコマシニング技術の長所・短所，適用条件等を明確化し，現状の問題の解決と，そのさらなる発展と普及に貢献することを目的としています．オリジナリティにこだわらず，これまでに発表した情報を整理した内容の講演も歓迎します．
テーマ（３） ファイル記憶のトライボロジー （分類番号22）
オーガナイザー：
| 多川 則男 | 関西大学工学部機械工学科 〒564-8680 大阪府吹田市山手町3-3-35 TEL: 06-6368-0874 FAX: 06-6388-8785 E-mail: tagawa@ipcku.kansai-u.ac.jp |
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| 横畑 徹 | 富士通研究所磁気ディスク装置研究部 〒243-0197 神奈川県厚木市森の里若宮10-1 TEL: 046-250-8239 FAX: 046-250-8151 E-mail: yokohat@jp.fujitsu.com |
ファイル記憶装置では通常，少数の記録再生素子で記録媒体上を走査し情報の記録再生を行います．その高性能化には両者間の間隙の短縮が必須です．信頼性を確保しつつ装置の高性能化を図るには，トライボロジー技術の進展が不可欠です．今後，600 Gb/in2記憶の実現には間隙 5nmの実現が必要と言われています．通常の原子直径のおよそ16倍の隙間です．
本シンポジウムでは，こうした極限の技術達成のためにマイクロ・ナノトライボロジーの知見から装置の製造工程に関わる話題まで，幅広い項目について最新の研究状況と問題点について研究成果の発表をいただきたく存じます．なお内容に関しましては、これまでに既に発表されているものを整理した講演でも結構です。薄膜の分子シミュレーション・ヘッド媒体間の衝突問題・コンタクト記録技術・浮上隙間の制御技術・ヘッドや媒体の保護膜の技術・分子状薄膜の潤滑技術・高信頼性確保のためのコンタミネーションコントロール技術・信頼性評価技術などさまざまな話題でご討議いただき，今後の発展の方向を探ることを目的と致しております．この分野に関心のある方々の，積極的なご参加，ご討論をお願い致します．
--> Last modified: Mar. 24, 2006
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