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超精密研磨/CMP技術とその最新動向(その1)―研磨の発展経緯と加工原理―
発行 | 2010 年(Vol. 55 ) 11 号 803 頁 |
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出典 | トライボロジスト |
種別 | 解説 |
特集 | 微細加工技術とトライボロジー |
標題 | 超精密研磨/CMP技術とその最新動向(その1)―研磨の発展経緯と加工原理― |
著者 | 土肥俊郎,黒河周平,大西修,山崎努 |
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